硅片清洗超纯水设备

　　硅片是半导体行业的重要基材。半导体器件制造中的硅片必须使用超纯水设备制取的超纯水仔细清洗，目的是去除表面污染杂质(包括有机物和无机物)，因为微量污染也能导致器件故障。

　　超纯水开始是美国科技界为开发超纯材料(半导体原始材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其他合适的超临界精细技术生产的水。现在超纯水也广泛用于芯片、精密仪器、电镀涂装、涂装等清洗中。

　　硅片清洗对水质要求高，电阻率在18兆以上，因此超纯水是很好的选择。 超纯水是一般水处理工艺难以达到的程度，水的电阻率大于18MΩ*cm，接近18.3MΩ*cm的称为超纯水。 超纯水设备通过预处理、反渗透技术、超纯化处理和后级处理等方法，几乎完全除去水中的导电性介质，同时将在水中不解离的胶体物质、气体和有机物除去到低水平的水处理设备。

　　厂家

　　硅片清洗超纯水设备定制厂家-广东环保，专业为硅片、单晶硅、多晶硅、触摸屏等电子行业提供专用纯水设备，产品具有出水稳定，节能环保，节约人工，自动化程度高的特点。厂家直销，支持全国上门安装调试，送终身维护，让您使用设备没有后顾之忧。

　　价格

　　我们根据您的用水需求，定制不同出水量的超纯水设备用于清洁硅片或者其他产品清洗，可定制从0.25t到500t不等的超纯水系统，价格在10000起步，到十几万不等，设备越大价格会相对较高。如您需要了解详细的纯水制取装置价格，联系我们，我们将会安排专业的工程师给你选择设备。

　　硅片清洗超纯水设备的优势

　　广川环保的硅片清洗超纯水设备具有生产水水质稳定、操作简单、无废弃物排放等特点，满足了各企业硅片的用水需要。

　　1.硅片清洗用超纯水设备的零部件均采用优质产品。

　　2.质量可靠，整体化程度高，容易扩展，增加膜数可以增加处理量。

　　3 .自动化程度高，发生故障时立即自行停止，具有自动保护功能。功耗低，水利用率高，运行成本低。 结构合理，占地面积少。

　　4.膜模块由复合膜卷成，显示出更高的溶质分离率和渗透速度。

　　5.先进的膜保护系统，在设备关闭时，淡化水自动冲洗膜面污染物，延长膜寿命。

　　6.硅片清洗用超纯水设备系统无易损件，无需大量维护，运行长期有效。

　　硅片清洗超纯水设备的工艺

　　进入EDI系统，主要部分流入树脂/膜内部，另一部分沿模板外侧流动，冲洗膜外的离子。 树脂捕集水中的溶解离子。 捕获的离子通过电极，阴离子向正极方向移动，阳离子向负极方向移动。 阳离子透过阳离子膜，排出到树脂/膜外。 阴离子透过阴离子膜，释放到树脂/膜外。 浓缩的离子从废水通道排出， 离子水未从树脂/膜内流出。

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